Çin’in “çalıntı” EUV makinesi şimdi tek bir çip bile üretemedi

Son periyotta global yarı iletken bölümünde büyük yankı uyandıran Çin’in ASML’nin EUV litografi makinesini kopyaladığı argümanları, görünüşe nazaran gerçeklikle pek örtüşmüyor. Birinci başta ASML’nin en kritik ve en ileri teknolojisi olarak görülen EUV (Aşırı Ultraviyole) litografi sistemlerinin Çin tarafından gizlice aksine mühendislik metoduyla çözüldüğü öne sürülmüştü. Fakat ortaya çıkan tablo, bu söylentilerin büyük ölçüde abartıldığını gösteriyor.

İddialar abartılı

Aktarılan bilgilere nazaran, Çin’de geliştirildiği argüman edilen kelam konusu EUV sistemi, fonksiyonel bir üretim aracı olmaktan hayli uzak. Kaynaklar, bu prototipin farklı kanallardan temin edilmiş, birbiriyle tam uyumlu olmayan modüllerin bir ortaya getirilmesiyle oluşturulmuş olduğunu belirtiyor. İkinci el ekipman satışları ve çevrim içi yedek kesim pazarlarından sağlandığı düşünülen bileşenlerle oluşturulan bu sistemin, bugüne kadar tek bir çip dahi üretemediği ifade ediliyor.

Bu durumun temel nedeni, EUV litografi teknolojisinin harika karmaşıklığı. ASML’nin Twinscan NXE platformu, tek bir teknik çizim ya da basitçe kopyalanabilecek bir dizayndan ibaret değil. Tersine, ABD, Avrupa ve Japonya merkezli binlerce tedarikçinin onlarca yıla yayılan ortak Ar-Ge çalışmasının eseri olarak öne çıkıyor. Hassas optikler, ultra yüksek vakum sistemleri, gelişmiş denetim yazılımları ve teşhis araçları üzere birçok kritik bileşen farklı şirketlerin sahip olduğu özel bilgi birikimiyle üretiliyor.

Parçaları bir ortaya getirmek bile yetmiyor

Bu tedarik zincirinin en kritik halkalarından biri, ASML’nin 2012 yılında bünyesine kattığı ABD merkezli Cymer. Cymer’in geliştirdiği EUV ışık kaynağı, CO2 lazerle oluşturulan plazma üzerinden 13,5 nanometre dalga uzunluğunda ışınım üretimine dayanıyor. Donanımın fizikî olarak kopyalanması teorik olarak mümkün görünse bile, yüksek hacimli üretimi sürdürebilmek için gerekli olan özel yazılımlar olmadan sistemin çalışması imkansız kabul ediliyor. Bu düzeyde bir yazılım-donanım entegrasyonunu ise bugüne kadar ASML dışında hiçbir yapı başaramadı.

EUV teknolojisinin bir öteki aşılması güç pürüzü ise optikler. Tüm EUV sistemleri, Carl Zeiss tarafından üretilen molibden-silikon çok katmanlı aynalara bağımlı. Bu aynalar, çok morötesi ışığı neredeyse kayıpsız yansıtmak zorunda ve Zeiss, bu optikleri üretebilen dünyadaki tek şirket pozisyonunda bulunuyor. Uzmanlara nazaran, bu aynaların yine üretilebilmesi için gereç bilimi ve ölçüm teknolojilerinde yıllar sürecek atılımlar gerekiyor.

ASML’nin mühendislik başarısı sırf kesimleri bir ortaya getirmekle sonlu değil. Şirket, binlerce özel alt sistemi tek bir makinede senkronize ederek nanometre ölçeğinde doğruluğu yüksek süratte koruyabilen bir yapı oluşturuyor. Bu bilgi birikiminin kıymetli bir kısmı, ASML’nin tedarikçileri ve araştırma ortakları ortasında dağılmış durumda.

Buna karşın Çinli çip üreticileri büsbütün eli kolu bağlı değil. SMIC üzere firmaların, ASML’nin daha eski jenerasyon DUV (Derin Ultraviyole) litografi sistemlerini yenilenmiş modüller ve ikinci el performans datalarıyla güncellediği bildiriliyor. Bu formülle DUV makinelerinin kullanım ömrü uzatılırken, ileri üretim süreçlerinde verimlilik sonlu da olsa artırılabiliyor. Lakin bu tahliller, çağdaş bir EUV platformunun sunduğu kapasite ve hassasiyetin yanına dahi yaklaşamıyor.

Sonuç olarak Çin’in EUV litografi alanında bir atılım yaptığı istikametindeki tezlerin, mevcut datalar ışığında gerçeği yansıtmadığı bildiriliyor. Ortada çalışan bir sistem ya da üretilmiş bir çip bulunmazken, EUV teknolojisinin hala ASML ve onun eşsiz ekosisteminin inhisarında olduğu belirtiliyor.

Kaynak : Donanimhaber